6月16日，据彭博社报道称，德克萨斯州联邦陪审团日前作出一项裁决，三星电子因侵犯韩国技术学院(Korea Advanced Institute of Science and Technology)一项专利技术，为此需向后者支付高达4亿美元的赔偿。
据悉，韩国技术学院曾发起诉讼，指控三星电子侵犯了其鳍片晶体管技术(FinFET)制程工艺相关的专利技术。三星起初对韩国技术学院的研究不屑一顾，认为该技术只是一种潮流技术。但在其对手——英特尔公司开始向这项技术的发明者取得许可授权时，围绕三星是否侵权的力量博弈发生了改变。随着芯片产品制程的缩小，鳍片晶体管技术能够提高芯片性能，同时降低芯片功耗。
作为全球最大的芯片制造商，三星向陪审团表示，它与韩国技术学院合作开发了这项技术，并否认侵犯了相关专利技术。三星还对这项专利的有效性提出了质疑。
三星的这一侵权行为被裁定为“故意为之”，或“有意为之”，这意味着法官可以将三星所需支付的赔偿金额增加到陪审团规定的三倍。
这项技术被认为是生产智能手机处理器的关键。GlobalFoundries和三星利用了这一技术来制造芯片。而作为最大的手机芯片制造商，高通则是两家公司的客户。上述公司对此判决提出了联合辩护。
这一事件标志着韩国顶级研究型科学与工程机构——韩国技术学院与三星这家对该国经济至关重要的公司之间展开的冲突。双方律师均拒绝对判决发表评论。
