在解决了金属复合工艺之后，下一个问题是抛光。
传统的抛光工艺原理也不复杂，它是通过物理方式把金属表面凸凹不平的材质去除，或者更亮的表面。但对“能当镜子”这样的要求来说，物理抛光不够精细，所以华为引入了CMP(化学机械抛光)。
这种抛光是在化学腐蚀的帮助下进行的一种机械抛光，华为日本团队首先调配研磨液，让它能在打磨过程中对产品表面进行轻微的化学腐蚀，然后这种腐蚀随着工进和黏膜耗材之间的高速相对运动，被腐蚀的化合物能够轻易被研磨掉，然后再有新的黏膜液再去研磨，这是一个动态的循环。其中的要点是让化学腐蚀和机械研磨达到一个良好的平衡，
从研磨液调配，研磨速度、角度，以及所有这些因素的平衡，是一个而漫长的过程，经面抛光之后的产品光泽度可以提升100倍，终于达到了镜面效果。
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